岗位职责:
- 负责黄光光刻工艺开发与优化,维护匀胶、曝光、显影生产线的日常稳定,处理工艺异常,确保光刻胶的厚度均匀性、关键尺寸(CD)精度、套刻精度及图形完整性符合设计规格。负责新产品的光刻工艺导入,制定并优化标准作业流程(SOP)及工艺参数表;
- 负责光刻核心设备的操作、工艺调试与日常监控(包括匀胶机/旋转涂布机、光刻机/光罩对准曝光机、热板、显影机)。参与光刻设备的验收、季度维护及简单故障排查。负责光刻版(掩模版/Mask)的管理、清洁检查与生命周期监控;
- 针对光刻工艺中常见的缺陷(如涂胶不均匀、条纹、颗粒沾污、显影不净、套刻偏差)进行根本原因分析,并提出改善方案。建立光刻参数与光学性能的关联模型,持续提升良率;
- 编制工艺报告、实验设计(DOE)报告及8D改善报告。培训技术员及操作员,确保黄光区工艺纪律及洁净室行为符合规范;
- 具备基础的统计学知识(SPC统计过程控制、DOE实验设计),并能运用相关软件(如JMP, Minitab)分析数据。
任职要求:
- 学历与专业:本科及以上学历,光学、微电子、材料物理、半导体物理、应用化学等相关专业;
- 核心能力:具有较好的逻辑思维能力、数学思维能力、学习沟通能力及承压能力;
- 职业素养:具备良好团队协作意识、对工作负责,积极主动,结果导向,具备实战精神;
- 工具与语言:熟练运用OFFICE办公软件;具备较好英文沟通能力、英文读写能力。
加分项:
- 光电设计大赛、物理实验竞赛等经历,制作过实物作品;
- 知名企业生产制造相关的实习经历;
- 熟悉ISO9001或IATF16949质量体系,具备FMEA失效模式与影响分析编写经验;
- 有黄光区(光刻)交叉工作经验,能独立操作匀胶机和光刻机。








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